LiF thin layers on Si(100) studied by ESD,LEED,AES and AFM

Gołek, Franciszek; Mazur, Piotr

Przejdź do menu głównego Przejdź do wyszukiwarki Przejdź do zawartości

polski
English

Strona główna
LiF thin layers on Si(100) studied by ESD,LEED,AES and AFM

Opis

Tytuł: LiF thin layers on Si(100) studied by ESD,LEED,AES and AFM
Tytuł czasopisma: Surface Science
Twórca: Gołek, Franciszek ; Mazur, Piotr
Strony: s. 173-181
Opis: Ref. ; Abstr.
Język Abstraktu: eng
Data wydania: 2003
Typ: Tekst
Język publikacji: eng
Szczegółowy typ obiektu: art
Typ obiektu: Artykuł
Tom/Wolumen/Zeszyt: Vol. 541, iss. 1-3 (2003)

Agregator Dorobku Naukowego Uniwersytetu Wrocławskiego, tworzony jest przez Bibliotekę Uniwersytecką we Wrocławiu

Europejski Fundusz Rozwoju Regionalnego Unii Europejskiej

Projekt pn. "Workflow do opracowania publikacji cyfrowych na uczelni" współfinansowany przez Unię Europejską z Europejskiego Funduszu Rozwoju Regionalnego

Używamy plików cookies, by nieustannie zwiększać komfort przeglądania naszej strony internetowej. W celu uzyskania szczegółowych informacji, prosimy o zapoznanie się z dokumentem Polityki Prywatności