- Modification of various properties of HfO2 thin films obtained by changing magnetron sputtering conditions
Opis
- Tytuł: Modification of various properties of HfO2 thin films obtained by changing magnetron sputtering conditions
- Tytuł czasopisma: Surface and Coatings Technology
- Twórca: Mazur, Michał ; Howind, Torsten ; Gibson, Des ; Kaczmarek, Danuta ; Morgiel, Jerzy ; Wojcieszak, Damian ; Zhu, Wenzhong ; Mazur, Piotr
- Strony: s. 426-431
- Opis: Bibliogr. ; Materials of 8th International Conference on Technological Advances of Thin Films and Surface Coatings (ThinFilms 2016), Singapore, 12-15 July 2016. ; Streszcz. w jęz. ang.
- Język Abstraktu: eng
- Data wydania: 2017
- Typ: Tekst
- Identyfikator: ISSN 0257-8972 ; https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2016.12.001
- Język publikacji: eng
- Wersja Cyfrowa: https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2016.12.001
- Szczegółowy typ obiektu: art
- Typ obiektu: Artykuł
- Tom/Wolumen/Zeszyt: Vol. 320 (2017)
